日本ORC  臭氧發(fā)生器ARV-O3MI

兼容多種光刻技術：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體器件的制造。

寬頻譜光刻功能：具備寬帶曝光能力，可根據配方自動切換 GHI 線、I 線等光刻波長，通過與菜單連動，實現(xiàn) ghi - Line、gh - line、i - line 的自動切換，滿足不同光刻工藝對波長的要求。

可變 NA 功能：搭載可變 NA（數(shù)值孔徑）功能，能夠在 0.16 和 0.1 之間切換，可根據不同的光刻精度需求調整光學系統(tǒng)的分辨率。

高精度光刻：分辨率可達 2.0μmL/s（2.0μm 抗蝕劑厚度），疊加精度≦0.5 微米（|Ave| + 3σ），能夠實現(xiàn)高精度的半導體圖案光刻。

光罩設計格式多樣：支持多達 8 場光罩設計格式，為復雜的半導體芯片設計提供了更多的靈活性。

光學系統(tǒng)保護：光學元件能夠免受周圍環(huán)境中的阻滯氣體和化學物質的影響，保證了光刻設備的穩(wěn)定性和光刻質量。

日本ORC  臭氧發(fā)生模塊

ARV-M001D

ARV-M005D

ARV-M020D

ARV-M050D 

ARV-M100D/A 

ARV-M300D/A

ARV-M500A

ARV-M1000A